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受保护的布图设计应具备什么样的条件?
撰写时间:2015年01月14日

  受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。 

  受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等

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